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「新製品情報誌」2017年8月号掲載
資料請求No.1170801801

機械・ロボット
産業用機械

0.25nmの極薄導電被膜を成膜

オスミウムコーティング装置

メイワフォーシス株式会社
東京都新宿区新宿1-14-2 KI御苑前ビル

 オスミウム金属を非結晶でコーティングする導電被膜形成装置。0.25nm〜の極薄膜でもチャージなく、電子線ダメージを防止。極薄膜から厚膜まで再現性高く成膜。各種元素分析、局所方位解析などの試料表面観察に最適。

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